半導體材料清洗理想水如何實現(xiàn)？

　　半導體材料的導電性介于導體與絕緣體之間，在能源、通信、醫(yī)療、集成電路、家用電器、電子設備、計算機等多領域都有很大的應用價值。半導體材料在制造工藝、設備規(guī)范、原材料等多個方面都有極高的標準要求，產(chǎn)品清洗用水也以僅含有氫氧原子、無其他任何成分雜質(zhì)的超純水為最佳。超純水由于純凈度高，用作清洗半導體材料能夠避免污染成分或雜質(zhì)對半導體產(chǎn)品質(zhì)量的干擾。

　　清洗半導體所用的超純水可以采用超純水設備來實現(xiàn)。超純水設備通過雙級反滲透系統(tǒng)+EDI模塊+拋光混床系統(tǒng)的處理工藝，嚴格執(zhí)行國家環(huán)保政策，可確保處理后的水質(zhì)穩(wěn)定達標。在制備超純水過程中，該設備具有以下優(yōu)勢：

　　1.采用獨有的靶向離子交換系統(tǒng)針對超純水中難處理的硼及其他離子定向去除；

　　2.膜系統(tǒng)能夠?qū)崿F(xiàn)帶電荷運行，離子遷移速度更快，脫鹽效果更優(yōu)；

　　3.采用PLC智能化程序，能靈活進行操作，人力投入節(jié)約；

　　4.系統(tǒng)運行無污染物析出，確保了系統(tǒng)內(nèi)無死水；

　　5.采用新型均粒樹脂包填充，高頻電子極板形成強電場運行環(huán)境，有效提高脫鹽率。

　　總的說來，超純水設備能夠達到出水連續(xù)、無酸堿再生、無人值守、安裝簡單、操作方便的理想質(zhì)量。在各段處理工藝中，EDI模塊優(yōu)勢顯著。該模塊處理不會產(chǎn)生酸堿廢液，因此不需要再進行酸堿中和處理。EDI進水為二級反滲透產(chǎn)水，水質(zhì)較好，脫鹽后濃水水質(zhì)仍舊能夠優(yōu)于一級反滲透產(chǎn)水，可回流至一級反滲透產(chǎn)水箱。整個工藝可以穩(wěn)定進行連續(xù)工作，無需更換樹脂，高度自動化作業(yè)更無需人工來操作。通過超純水設備生產(chǎn)用來清洗半導體產(chǎn)品的超純水品質(zhì)高、無污染，是半導體行業(yè)中不可缺少的工具之一。

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　　編輯：柒柒   技術：米